ＭｏＳｉ２、ＴａＳｉ２和ＷＳｉ２等硅化物在喷涂过程中呈现较好的高温稳定性．此外，氧化过程中能生成氧化硅玻璃相，可作为ＺｒＢ２改性第二相．ＺｒＢ２－３０％ＳｉＣ－１０％ＭｏＳｉ２（３０％，１０％为体积分数）涂层的１８００℃氧化实验显示，添加ＭｏＳｉ２可以显著减小氧化层的厚度，此外，涂层在１５００℃的应力－应变曲线呈现塑性变形特征．真空等离子体喷涂（ＶＰＳ）技术制备的ＺｒＢ２－３０％ＭｏＳｉ２（３０％为体积分数）涂层呈现较均匀的ＭｏＳｉ２分布，涂层的孔隙率仅为３％，并且在１５００℃氧化１５ｈ仍然保持增重．相同工艺制备的ＺｒＢ２－３０％ＳｉＣ（３０％为体积分数）涂层经过６ｈ氧化便发生质量损失现象．此外，ＺｒＢ２－４０％ＭｏＳｉ２涂层在１５００℃的氧化层厚度比ＺｒＢ２－２０％ＭｏＳｉ２涂层的小（４０％，２０％为体积分数）．这是后者表面形成致密和连续的氧化硅膜所致．大气等离子体喷涂（ＡＰＳ）技术制备的ＺｒＢ２－４０％ＭｏＳｉ２（４０％为质量分数）涂层经１５００℃氧化９ｈ，失重率为１．７％，好于ＭｏＳｉ２质量分数分别为３０％和５０％的ＺｒＢ２基复合涂层，ＺｒＳｉＯ４，导致其抗氧化性能显著降低．
硅化物中的金属元素也会对超高温涂层的氧化产物产生影响，从而影响涂层的高温性能．ＺｒＢ２－２０％ＴａＳｉ２（２０％为体积分数）涂层氧化过程中，形成片状ＴａＺｒ２．７５Ｏ８相，并且其晶粒尺寸随氧化时间的延长而增大，破坏了涂层表面氧化硅膜的完整性，导致其抗氧化性能相应下降。
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