中文版 English  加入收藏 | 设为首页 | 会员中心 | 我要投稿 | RSS
您当前的位置:首页 > 技术文献 > 涂层应用

C/C 复合材料的非晶SiO2涂层制备及其生物活性

时间:2017-07-15 16:21:38  来源:桑尧热喷涂网整理  作者:tianzhongma

 

C/C复合材料由于其密度低,比强度和比模量高,导热系数高,热膨胀系数小,高温形状尺寸稳定性好,抗烧蚀和抗热冲击性能良好等优点,使其成为高温极端环境下工作的理想材料;同时,由于良好的生物相容性,耐腐蚀和良好的生物力学相容性等特点,C/C复合材料成为理想的生物材料。但其表面疏水、易产生碎屑导致黑肤效应等弊端也限制了其在生物医学、尤其是关节、齿根等耐磨植入材料上的应用。为提高表面活性、耐磨性以及使用寿命,一般会在C/C复合材料的表面涂覆含硅涂层。硅是人体必需元素之一,也是胶原组成成分之一,除了能将粘多糖互相连结并结合到蛋白质上,还能维持胶原中脯氨酰羟化酶的活性。经体内、体外培养和植入实验表明:非晶态SiO2无生物毒性。

    目前用于制备SiO2 涂层的方法主要有热氧化法( thermal oxidation )、溶胶-凝胶法( sol-gel) 和化学气相沉积法(chemical vapor deposition)等。其中热氧化法是用含硅前驱体如硅烷与氧气反应产生SiO2涂层;溶胶-凝胶法先制备SiO2溶胶,然后经过干燥、热处理和烧结,使之转变成SiO2涂层。不论是热氧化法还是溶胶-凝胶法均存在涂层厚度难控制均匀,结合强度不高等缺陷。CVD法以SiH4SiH2Cl2等有机物为前驱体,以O2N2O为载气在基体表面反应生成SiO2涂层。与其他方法相比,CVD法具有设备简单、操作维护方便、异形件表面涂覆均匀等优点,广泛运用于材料涂层制备领域。本研究以价廉易得的正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体、N2为载气、C/C复合材料为基板,用CVD方法快速制备非晶SiO2涂层以实现复合材料的表面改性。研究了沉积温度对SiO2涂层制备的影响,初步探索了非晶态SiO2的生物活性,以证实其在生物医学方面的应用可能性。

   

小结

    研究了以正硅酸乙酯为前驱体,化学气相沉积生成非晶态 SiO2,其沉积温度对涂层结构、沉积速率的影响,以及非晶态 SiO2的生物活性。

         (1) 以正硅酸乙酯为前驱体,通过化学气相沉积法可在 C/C 复合材料表面制备出一层致密均匀且与基体结合紧密的非晶态 SiO2 涂层。随着沉积温度的增加,正硅酸乙酯分解愈彻底,中间产物的残余量减少,非晶 SiO2含量增加。

         (2) 涂层的沉积速率随着沉积温度的升高而增加,在 1080℃时沉积速率达到 47.6μm·h-1SiO2颗粒由不规则形状转变为规则的球形,最后转变成多边形。

         (3)1080℃条件下制备的含非晶 SiO2 涂层的C/C 复合材料在模拟体液中浸泡至 35 天,样品表面产生了类骨羟基磷灰石,与无非晶 SiO2 涂层的C/C 复合材料相比,生物活性优于后者。

本站文章未经允许不得转载;如欲转载请注明出处,北京桑尧科技开发有限公司网址:http://www.sunspraying.com/

来顶一下
返回首页
返回首页
发表评论 共有条评论
用户名: 密码:
验证码: 匿名发表
推荐资讯
相关文章
    无相关信息
栏目更新
栏目热门