单质硅可与C、N 等形成共价硅化物，这些化合物通常具备高硬度、耐腐蚀及抗氧化等优点。Wang 等采用离子束辅助沉积法和离子注入法在SS316L 表面得到了SiC 涂层，并在308~320℃的环境中测试其阻氢性能，结果表明：SiC 涂层的PRF 达到10000，并且多层硅溅射沉积后再注入碳离子制备出的涂层具有更强的耐腐蚀性。Wu 等采用射频磁控溅射技术在SS316L 表面制备了SiC涂层。结果表明：473K下沉积得到的涂层，其PRF达到200。Vincenc等研究了SiN涂层的阻氢性能。通过射频磁控溅射法在铁素体不锈钢表面制备SiN 涂层，并采用气相氢渗透法评价涂层的阻氢性能。结果表明：SiN 涂层的PRF 可达2000，但SiN 涂层对基底的要求较高。若SiN 涂层与基底的匹配度不高，其PRF 值仅为25，出现这一现象的原因是涂层表面形成了裂纹或孔洞。钛化物涂层是指钛与其他元素组合形成的化合物涂层，主要包括氮化钛、碳化钛或两者的混合涂层。钛化物涂层由于其耐腐蚀性强、硬度高等优点，是涂层领域研究较多的材料之一，有学者发现钛化物涂层在阻氢方面也有优异的效果。Checchetto 等采用离子束辅助工艺在马氏体不锈钢表面沉积TiN/TiC涂层，可有效阻止氢渗透进入基材，但较高的氢气压力会破坏涂层结构。Wang 等采用充填胶结工艺在马氏体不锈钢表面制备了钛涂层，之后通过高温氧化、高温氮化使试样表面形成了TiO2/TiN/TiC、TiN/Ti、TiO2/Ti 等涂层结构。结果表明：TiO2/TiN/TiC 涂层的阻氢效果最好，可将稳态氢渗透电流降低至基材的0.7%，TiO2/Ti 涂层可将稳态氢渗透电流降至基材的6%，TiN/Ti 涂层可将稳态氢渗透电流降低至基材的11.5%。上述几种涂层性能存在差异的主要原因如下：TiO2/Ti 表面存在较大的晶粒，且在氢渗透实验后出现松动、脱落等现象；TiO2/TiN/TiC 在形成时，填补了原有涂层表面的孔洞，使涂层表面晶体结构更加紧密。相比于TiC，TiN 涂层的表面结构更紧密、均匀，且TiN 涂层阻氢性能更强，可作为今后钛化物涂层的研究重点。
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