除了在等离子喷涂设备上进行改进外，人们还研制了一些新型的热喷涂技术来满足新型涂层需求。
一般情况下，低压等离子喷涂设备(LPPS：LowPressurePlasmaSpray)工作在5000~25000Pa的压力下。近年出现了一种新型的LPPS-TF技术，主要特点是工作压力降低到100~1000Pa。当工作压力低至100Pa时，等离子焰流会显著变长(例如在7000Pa时为200mm，在100Pa时会长至2m)，同时焰流的直径增大一倍以上。因此，若使用常见的喷嘴，等离子在喷嘴出口处膨胀不足，会导致等离子弧沿轴向出现膨胀区和收缩区，出现不均匀。等离子弧的这种不均匀，可能导致送入的粉末飞出等离子弧并重新固化，降低涂层质量。因此，LPPS-TF喷枪需要重新设计等离子喷嘴。采用的等离子喷枪工作在180~240kW，喷涂时喷距最长到1400mm，沉积速度为0.05~1.00μm/遍，沉积的涂层厚度为0.1~200.0μm。
利用LPPS-TF技术能快速、大面积沉积薄的致密涂层，填补PVD涂层技术和一般热喷涂技术之间的空白。
（1）快速、大面积沉积薄的致密涂层：一般情况下，使用其他热喷涂技术很难制备致密且厚度小于50μm的陶瓷涂层。而若采用PVD涂层技术，则沉积速度很慢，且成本太高。使用LPPS-TF技术，典型的陶瓷涂层沉积速度为：在1m2上1min沉积10μm厚涂层。制备的涂层非常致密，特别适合于低成本制备固体燃料电池(SOFC)用电极。
（2）制备新型热障涂层：等离子喷涂制备的热障涂层为层状，具有导热率低的优点；而EB-PVD制备的热障涂层为柱状组织，有热循环寿命高的特点；采用LPPS-TF制备的热障涂层，能兼有层状和柱状组织结构，综合等离子喷涂和EB-PVD制备热障涂层的优点，涂层具有更佳的综合性能。
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