通过离子源复合磁控溅射技术制备的NiCrAlY薄膜与NiCrAlY/MoS2 复合薄膜为柱状晶结构，随着MoS2 掺杂量的增加，薄膜表面颗粒尺寸增大、孔洞增多，薄膜致密性逐渐降低。NiCrAlY 薄膜中主要由Ni3Al、Cr 组成；掺杂MoS2 后，NiAl3 晶粒细化，复合薄膜以非晶或纳米晶形式存在。
MoS2 掺杂降低了薄膜的硬度，NiCrAlY 薄膜硬度为503HV，随着MoS2 含量的增加，NiCrAlY/MoS2复合薄膜硬度逐渐降低到336HV。复合薄膜与基体具有良好的结合力，结合力等级达到HF1 级。
MoS2 掺杂提高了薄膜的摩擦学性能，随着MoS2 含量的增加，摩擦因数大幅下降，磨损率也呈降低趋势；MoS2 掺杂量为48.1%~69.8%时，复合膜的摩擦因数为0.038~0.09，平均磨损率最小，达到2.14×10–6 mm3/(N·m)，表现出良好的自润滑耐磨性能。
NiCrAlY 和NiCrAlY-48.1%MoS2 薄膜经过400 ℃和500 ℃氧化2 h 后，NiCrAlY 薄膜氧化后形成NiO、Al2O3 相，氧化物的形成有利于提高NiCrAlY薄膜的摩擦学性能，500 ℃氧化后磨损率降至8.94×10–6 mm3/(N·m)。NiCrAlY-48.1%MoS2 氧化后形成NiO、Al2O3、MoO3 相，但仍有部分MoS2 未被氧化失效；经过氧化后复合薄膜仍表现出良好的耐磨性能，经过400 ℃氧化后，磨损率降至1.41×10–6 mm3/(N·m)。
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