多晶结构的陶瓷涂层在沉积生长过程中，各晶粒沿着某些方向集聚排列，形成某一方向上取向几率增大的现象，称作涂层的择优取向。择优取向对涂层的物理化学及力学性能有着显著的影响。PS制备的涂层在喷涂过程中熔滴快速铺展，单片层中形成的垂直于基体表面的柱状晶粒存在择优取向。涂层沉积生长初期，柱状晶为细小晶体堆积形成的致密结构。随着厚度的增加，柱状晶垂直基材生长，每个柱状晶并不是一个单晶结构，而是由众多更细小柱状晶构成，柱与柱之间存在一定间隙。柱间间隙来源于气相冷凝和由不平整的柱状晶引起的宏观阴影，造成涂层内部生长的柱与柱相互竞争，部分小柱停止生长，形成大小柱交替堆积的结构，交汇的地方形成间隙。在极图中寻找密度高的区域，可以根据其晶体学取向与样品的宏观坐标轴解读出样品的择优取向，择优取向越明显，其强度值越大。柱的直径与准等轴晶的尺度相似，柱状结构中存在空隙和气孔。准等轴晶区域内晶粒随机取向。在准等轴晶层和柱状结构之间无外延生长，但柱的生长具有择优取向。涂层呈现张应力，主要来源于淬火应力、热膨胀失配应力和热梯度应力等，陶瓷层沉积过程中应力基本没有明显集中。
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